Mission : Dépôts de films de NiO par ALD pour l'amélioration de photoanodes pour l'oxydation de l'eau Activités : Récemment, une nouvelle classe de co-catalyseurs prometteurs et rentables pour la photo-oxydation de l'eau a été mise en évidence et brevetée. Ce projet vise donc à l'étude et le développement d'une famille de catalyseurs innovante, basée sur ces résultats préliminaires très prometteurs. Il est donc intrinsèquement original. Ce travail consistera à synthétiser, caractériser et sonder les propriétés photoélectrochimiques de différentes compositions de cette nouvelle famille de matériaux. Ces catalyseurs seront principalement élaborés sur des électrodes à base de Si par dépôt de couches atomiques (ALD). La première étape est le dépôt de NiO par cette technique. Les paramètres de dépôt seront optimisés pour contrôler la composition chimique, la structure cristalline et la morphologie. Des recuits thermiques sous différentes atmosphère s seront aussi effectués pour modifier les propriétés des films de NiO mais aussi pour produire les alliages ternaires. Les performances photoélectrochimiques de ces systèmes seront évaluées et corrélées à leurs propriétés physico-chimiques ainsi qu'à leur structure électronique. Les catalyseurs seront étudiés à l'aide des différentes techniques analytiques disponibles à l'institut. La morphologie sera observée par microscopie électronique (MEB, MET), la structure cristalline par diffraction d'électrons et de rayons X et la composition chimique par XPS et FTIR. Les performances des électrodes seront testées en utilisant différentes installations électrochimiques (photo) du groupe.