Mission : Vous rejoindrez une équipe dynamique dans le cadre d'un programme de prématuration du CNRS. Ce projet vise à développer une technologie de rupture à l'interface de la nanophotonique et de l'électronique haute fréquence. Notre objectif est de réaliser la preuve de concept expérimentale d'un dispositif nanométrique unique, capable de confiner et d'exalter les champs électromagnétiques à des niveaux inégalés, pour des applications critiques dans les technologies quantiques (contrôle de qubits) et la nano-analyse. Ce poste est stratégique : il s'agit de transformer une innovation scientifique validée théoriquement en un prototype industriel. Il offre une opportunité rare de participer à la genèse d'une future start-up Deeptech, avec de fortes perspectives d'évolution pour le ou la candidat(e) retenu(e). Sous la responsabilité du porteur de projet, le ou la candidat(e) sera le pilier technologique de l'équipe. Sa mission principale est de lever les verrous technologiques liés à la fabrication de structures multi-échelles complexes. Activités : - Concevoir et réaliser des protocoles de fabrication hybrides combinant des échelles macroscopiques et nanométriques. - Être le/la référent(e) sur les équipements de lithographie électronique (EBL) pour la définition des motifs de haute résolution (inférieur à 100 nm). - Mettre en œuvre la lithographie optique (UV/Laser) pour l'intégration des structures et des contacts électriques. - Utiliser le FIB (Focused Ion Beam) pour le prototypage rapide ou la correction de structures. - Maîtriser les étapes de dépôt (métaux, diélectriques) et de gravure. - Réaliser les inspections structurelles (MEB, AFM). - Participer activement à la caractérisation fonctionnelle en collaboration avec les experts en microscopie de champ proche de l'équipe. - Contribuer à la stratégie de propriété intellectuelle et à la définition du produit minimum viable (MVP) pour la future start-up.