Mission : Ce travail s'inscrit dans le cadre du projet ANR NOBEL de l'AAPG 2023 qui rassemble 4 partenaires : le LTM/CNRS, le pheliqs/CEA, l'institut Néel/CNRS et le CREAH/CNRS. La finalité du projet est la fabrication de sources bétavoltaiques en utilisant une nouvelle architecture filaire dite cœur-coquille qui permettrait de surmonter les limitations de rendements des sources bétavoltaiques existantes. L'objectif du contrat est l'élaboration de nanofils de GaN ou d'AlGaN à fort facteur de forme en utilisant une approche top down, cette étape étant clé dans l'intégration. Ces fils seront ensuite exploités par les partenaires du projet qui réaliseront les étapes technologiques suivantes pour la fabrication de la source bétavoltaique Activités : Le travail sera réalisé sur les réacteurs de gravure 200 et 300mm du LTM localisés dans les salles blanches du CEA/Leti. Il s'agira de : 1) Créer le design lithographique adapté aux besoins (GDS) 2) Développer/optimiser des procédés de gravure plasma de fils d'AlGaN et de GaN à fort facteur de forme 3) Appliquer des traitements humides à base de KOH pour restaurer les surfaces des fils gravés 4) Caractériser les procédés morphologiquement (SEM, FIB-STEM, AFM) 5) Faire l'interface avec les autres équipes du projet